توسعه ي روزافزون دستگاه هاي اپتوالكترونيكي انعطاف پذير مانند سلول‌هاي خورشيدي، صفحات نمايش لمسي و ديگر دستگاه هاي مشابه نياز به فيلم هاي پليمري منعطف با پوشش هاي شفاف و رساناي جريان الكتريكي را به يك ضرورت تبديل كرده است. در حال حاضر ماده متداول براي استفاده در اين دستگاه ها اكسيد قلع اينديوم (ITO) مي باشد كه يك به عنوان يك پوشش شفاف و رسانا به كار گرفته مي شود. از آنجايي كه اين ماده نسبتا گران‌قيمت است ومنابع آن نيز نادر مي باشد، به‌كارگيري آن در حجم هاي وسيع مانند سلول هاي خورشيدي مقرون به‌صرفه نيست. به علاوه شكنندگي ذاتي پوشش‌هاي ITO يك محدوديت اساسي آنها براي استفاده در كاربردهاي الكترونيكي نيازمند انعطاف پذيري محسوب مي شود؛ لذا محققان در جستجوي جايگزيني براي اين ماده هستند. بدين منظور مواد مختلفي همچون نانولوله هاي كربن، گرافن و پليمرهاي ذاتاً رسانا در دست بررسي مي باشند. تاكنون استفاده از نانولوله هاي كربن و يا گرافن به علت مشكلاتي مانند هدايت الكتريكي پايين و شفافيت نامطلوب چندان موفقيت آميز نبوده است. بنابراين پليمرهاي ذاتاً رسانا با توجه به خواص الكتريكي و نوري خود، به عنوان جايگزين ITO اهميت ويژه اي يافته اند. اين پليمرها زماني كه به صورت نانوذرات باشند، شفافيت مطلوبي را به فيلم هاي مدنظر مي بخشند. اما در مسير لايه نشاني آنها بر روي سطح زيرلايه هاي مختلف از جمله فيلم هاي پليمري منعطف مانند پلي اتيلن نفتالات (PEN)، مشكلاتي مانند چسبندگي ضعيف بين پليمرهاي رسانا و سطح زيرلايه و همچنين عدم انحلال اين پليمرها در اغلب حلال ها موجب پيدايش محدوديت هاي اساسي شده است. با توجه به اين مشكلات در اين اختراع تلاش شده است كه نانوذرات پلي پيرول (به عنوان پليمر ذاتاً رسانا) بر روي سطح فيلم هاي منعطف پلي اتيلن نفتالات به صورت يكنواخت پوشش دهي شوند و بدين طريق يك فيلم رسانا، شفاف و منعطف ساخته شود. بدين منظور نخست سطح فيلم هاي منعطف PEN با استفاده از يك محلول ساده به نام پيرانا (تركيب اسيد سولفوريك و هيدروژن پراكسيد) آبدوست و اصلاح شده تا مشكل چسبندگي ضعيف آن با نانوذرات پليمر رسانا حل شود. سپس با استفاده از سنتز فوتوشيميايي، سنتز و لايه نشاني نانوذرات پلي پيرول بر روي سطح فيلم PEN اصلاح شده به صورت درجا (همزمان) طي زماني كوتاه و با هزينه ي نسبتاً پايين انجام شده است.